POKLON! Hranjiva maska Christina Wish Deep Nourishing Mask

деионизированная вода, глицерин, содиум полиакрилат, гексилен гликоль, С12-15 алкил бензоат, этоксидигликоль, циклопентасилоксан, диметиконол, гидрогенированный полисобутен, масло Ши, титаниум диоксид, дипальмитоил гидроксипролин, масло авокадо неомыляемое, содиум лактат, содиум PCA, полиакриламид, С13-14 изопарафин, лаурет-7, тиоктовая кислота, ферулиновая кислота, фитиновая кислота, мелатонин, прастерон, диметил МЕА, койевая кислота, сорбитан стеарат, ароматизатор, акриловый кополимер, содиум гиалуронат, токоферил ацетат, ретинил пальмитат, метилпарабен, пропилпарабен, аскорбиновая кислота, метилхлороизоциазолинон, метилизоциазолинон.